◎ 题干
在FeCl3溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中,废液处理和资源回收的过程简述如下,请回答下列问题:
魔方格

(1)请写出FeCl3溶液与铜反应的离子方程式:______;操作Ⅰ加入的试剂W是______.
(2)操作Ⅱ之前最好加入适量稀盐酸,某同学用10mol-L-1 的浓盐酸配制250mL 1mol-L-1 的稀盐酸,并进行有关实验.
①需要量取浓盐酸______mL.
②配制该稀盐酸时除量筒、烧杯、玻璃棒外,还必须用到的仪器有______、______.
③用已知浓度的氢氧化钠溶液滴定稀盐酸,滴定过程中眼睛应注视______,实验时未用标准液润洗滴定管,测得锥形瓶中待测液的浓度______实际浓度.(填“>”、“<”或“=”).
(3)操作Ⅲ前需要通入气体V,请写出实验室制取气体V的化学方程式:______,该反应中______是氧化剂.
(4)操作Ⅲ应在HCl气流氛围中进行,其原因是______.
(5)若通入的V的量不足,则最后制得的氯化铁晶体不纯净,这是因为溶液U中含有杂质______.请设计合理的实验,验证溶液U中的成分,并判断通入的V的量是否不足______(简要说明实验步骤、现象和结论).
供选择的试剂:酸性KMnO4溶液、KSCN溶液、氯水.
(6)若向氯化铁溶液中加入一定量石灰水,调节溶液pH,可得红褐色沉淀.该过程中调节溶液的pH为5,则金属离子浓度为______.(己知:Ksp[Fe(OH)3]=4.0×10-38
◎ 答案
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◎ 解析
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◎ 知识点
    根据n多题专家分析,试题“在FeCl3溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中,废液处理和资源回收的过程简述如下,请回答下列问题:(1)请写出FeCl3溶液与铜反应的离子方程式:______;操作Ⅰ加入的试剂W是______.(…”主要考查了你对  【铁盐(三价铁离子)】【亚铁盐(二价铁离子)】【单质铜】【氧化亚铜】【氧化铜】【氢氧化铜】【物质的分离】  等知识点的理解和应用能力。关于这些知识点的“档案”,你可以点击相应的链接进行查看和学习。