硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如图①写出由纯-高中化学-n多题

◎ 题干

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl₃)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如图

①写出由纯SiHCl₃制备高纯硅的化学方程式：__________________
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和另一种物质，写出配平后的化学方程式________________；H₂还原SiHCl₃过程中若混有O₂，可能引起的后果是_____________。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是___________（填字母）。
A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥
B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承
C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料--光导纤维
D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英制成的，其熔点很高
E．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

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◎ 知识点

根据n多题专家分析，试题“硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如图①写出由纯…”主要考查了你对【单质硅】等知识点的理解和应用能力。关于这些知识点的“档案”，你可以点击相应的链接进行查看和学习。

◎ 相似题

与“硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如图①写出由纯”考查相似的试题有：

● 下列关于碳族元素的说法中，错误的是A．它们从上到下的非金属性向金属性递变的趋势比卤族元素明显B．碳族元素的气态氢化物的稳定性从上到下逐渐减弱C．碳族元素原子的最外层都有 ● 能证明硅酸的酸性弱于碳酸酸性的实验事实是A．CO2溶于水形成碳酸，SiO2难溶于水B．CO2通入可溶性硅酸盐中析出硅酸沉淀C．高温下SiO2与碳酸盐反应生成CO2D．HCl通入可溶性碳酸盐溶 ● 下列说法正确的是A．混合物的分离是依据混合物中各组分性质的差异进行的，元素分析仪、红外光谱仪、原子吸收光谱仪等均是分离物质的常用仪器。B．道尔顿、汤姆生、卢瑟福、玻尔 ● 下列说法正确的是（）A．非金属元素R所形成的含氧酸盐（NaROb）中的R元素必定呈现正价B．只有非金属能形成含氧酸或含氧酸盐C．除稀有气体外的非金属元素都能生成不同价态的含氧酸D．● [化学——选修3：物质结构与性质]（15分）硅是重要的半导体材料，构成了现代电子工业的基础。回答下列问题：（1）基态Si原子中，电子占据的最高能层符号为____，该能层具有的原子轨道