工业制造粗硅的化学方程式为：SiO2+2C高温.Si+2CO↑，在这个氧化还原反应中，氧化剂和还原剂的物质的量之比是（）A．1：2B．2：1C．1：1D．5：2-高中化学-n多题

◎ 题干

工业制造粗硅的化学方程式为：SiO₂+2C

高温

Si+2CO↑，在这个氧化还原反应中，氧化剂和还原剂的物质的量之比是（　　）

A．1：2

B．2：1

C．1：1

D．5：2

◎ 答案

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◎ 解析

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◎ 知识点

根据n多题专家分析，试题“工业制造粗硅的化学方程式为：SiO2+2C高温.Si+2CO↑，在这个氧化还原反应中，氧化剂和还原剂的物质的量之比是（）A．1：2B．2：1C．1：1D．5：2…”主要考查了你对【氧化还原反应的本质和特征】，【氧化还原反应的定义】等知识点的理解和应用能力。关于这些知识点的“档案”，你可以点击相应的链接进行查看和学习。

◎ 相似题

与“工业制造粗硅的化学方程式为：SiO2+2C高温.Si+2CO↑，在这个氧化还原反应中，氧化剂和还原剂的物质的量之比是（）A．1：2B．2：1C．1：1D．5：2”考查相似的试题有：

● 在炼铜的过程中发生:Cu2S+2Cu2O="6Cu"+SO2↑,则下列叙述正确的是A．该反应从电子转移角度看，与SO2+2H2S="3S"+2H2O是同一反应类型B．该反应从电子转移角度看，每生成6mol铜 ● （8分）二氧化硒(SeO2)是一种氧化剂，其被还原后的单质硒可能成为环境污染物，通过与浓HNO3或浓H2SO4反应生成SeO2以回收Se。完成下列填空：（1）Se和浓HNO3反应的还原产物为NO和N ● 关于反应中的先后顺序，下列评价正确的是（）A．向浓度都为0．1mol·Ｌ-1Na2CO3和NaOH混合溶液中通入CO2，NaOH首先反应B．向NH4Al(SO4)2溶液中滴加少量的NaOH溶液，NH4+首先反应C．向 ● A、B、C、D、E为原子序数依次增大的5种短周期元素，A最外层电子数是其电子层数的两倍；B能形成双原子阴离子；C与B能形成两种常见的离子化合物，B、E同主族，C、D、E的最高价 ● 根据表中信息判断，下列选项正确的是（）A．第①组反应的其余产物为H2OB．第②组反应中Cl2与FeBr2的物质的量之比小于或等于1：2C．第③组反应中生成1molCl2，转移电子5molD．氧化性由强