硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：①写出由纯-高中化学-n多题

◎ 题干

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：
（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl₃)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

①写出由纯SiHCl₃，制备高纯硅的化学反应方程式________________________。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式______________________________；H₂还原SiHCl₃ 过程中若混入O₂，可能引起的后果是_________________________________。
（2）下列有关硅材料的说法正确的是____（填字母）。
A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥
B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承
C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料--光导纤维
D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高
E．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

（3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡。写出实验现象并给予解释________。

◎ 答案

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◎ 解析

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◎ 知识点

根据n多题专家分析，试题“硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：①写出由纯…”主要考查了你对【单质硅】，【工业生产其他物质（工业制备碳酸锂，硫酸钡等化工原理）】等知识点的理解和应用能力。关于这些知识点的“档案”，你可以点击相应的链接进行查看和学习。

◎ 相似题

与“硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：①写出由纯”考查相似的试题有：

● 下列叙述不正确的是（）A．工业上可用碳在高温下还原二氧化硅制取硅B．工业上可用氯气和石灰乳为原料制造漂白粉C．镁条不能在二氧化碳气体中燃烧D．将盛有氢氧化铁胶体的烧杯置于暗 ● [化学与技术]工业上可以利用氟硅酸、碳酸氢铵制备冰晶石（Na3AlF6），其工艺如下：请回答下列问题：（1）反应①中生成的无色气体A是______，滤液①的溶质是______．（2）经测定NH4HCO3溶 ● 中学化学中涉及到一些重要的化学工业，以下有关化工生产叙述正确的是（）A．氯气通入到饱和的石灰水中可制得大量漂粉精B．钠可把钛、锆、铌、钽等金属从它们的卤化物溶液里还原出 ● 下列物质的制备，符合工业生产实际的是（）A．将氯气通入澄清石灰水中制漂白粉B．纯碱工业中将氨气与二氧化碳先后通入饱和食盐水中，生成碳酸氢钠沉淀C．将氢气和氯气混合后点燃，● 漂白粉是一种常用杀菌、消毒剂，其有效成分为次氯酸钙．如图为制取漂白粉的工业流程简图．（1）流程I得到浓度为80g•L-1氢氧化钠溶液，其物质的量浓度是______mol•L-1．（2）写出流程