电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是：SiO2(s)+4HF(g)==SiF4(g)+2H2O(g)其△H（298K）==-94.0kJ·mol-1△S(298K)==-75.8J·mol-1·K-1设△H和△S不随温度变化而变化，试求此反应-高中化学-n多题

◎ 题干

电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是：SiO₂(s)+4HF(g)==SiF₄(g)+2H₂O(g) 其△H（298K）== -94.0kJ·mol^-1 △S(298K)== -75.8J·mol^-1·K^-1 设△H和△S不随温度变化而变化，试求此反应自发进行的温度条件。

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◎ 知识点

根据n多题专家分析，试题“电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是：SiO2(s)+4HF(g)==SiF4(g)+2H2O(g)其△H（298K）==-94.0kJ·mol-1△S(298K)==-75.8J·mol-1·K-1设△H和△S不随温度变化而变化，试求此反应…”主要考查了你对【化学反应热的计算】等知识点的理解和应用能力。关于这些知识点的“档案”，你可以点击相应的链接进行查看和学习。

◎ 相似题

与“电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是：SiO2(s)+4HF(g)==SiF4(g)+2H2O(g)其△H（298K）==-94.0kJ·mol-1△S(298K)==-75.8J·mol-1·K-1设△H和△S不随温度变化而变化，试求此反应”考查相似的试题有：

● 工业合成氨的反应（N2+3H3═2NH3）是一个放热反应．（1）相同条件下，1molN2和3molH2所具有的能量______（填“＞”、“＜”或“=”）2molNH3具有的能量；在相同条件下，若断开1molN2、3molH2 ● 在一定条件下，CO和CH4燃烧的热化学方程式分别为：2CO（g）+O2（g）=2CO2（g）；△H=-566kJ•mol-1CH4（g）+2O2（g）=CO2（g）+2H2O（l）；△H=-890kJ•mol-1由等物质的量的CO和CH4的混合气体共 ● SF6是一种优良的绝缘气体，分子结构中存在S-F键．已知1molS（s）转化为气态硫原子吸收能量280kJ，断裂1molF-F．S-F键需吸收的能量分别为160kJ、330kJ．则S（s）+3F2（g）═SF6（g）的反应 ● 在火箭推进器中装有强还原剂肼（N2H4）和强氧化剂H2O2，当它们混合时，即产生大量N2和水蒸气，并放出大量热，已知0.4mol液态肼与足量液态H2O2反应，生成氮气和水蒸气，放出25 ● 在相同温度下，下列三个热化学方程式中Q值的关系是（）（1）2H2（g）+O2（g）→2H2O（g）+Q1（2）2H2（g）+O2（g）→2H2O（l）+Q2（3）H2（g）+12O2（g）→H2O（g）+Q3．A．Q1＞Q2=Q3B．Q1=Q2=Q3C．Q2＞Q1=2Q3D．