四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法，有关反应的化学方程式为：SiCl4+2H24HCl+Si,下列说法不合理的是[]A．反应制得的硅可用于制造半导体材料B．增大压强有利于加快上-高中化学-n多题

◎ 题干

四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法，有关反应的化学方程式为：
SiCl₄ + 2H₂

4HCl + Si, 下列说法不合理的是

[ ]

A．反应制得的硅可用于制造半导体材料　
B．增大压强有利于加快上述反应的化学反应速率　
C．四氯化硅可以由粗硅与氯气通过化合反应制得　
D．混入少量空气对上述反应无影响

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◎ 知识点

根据n多题专家分析，试题“四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法，有关反应的化学方程式为：SiCl4+2H24HCl+Si,下列说法不合理的是[]A．反应制得的硅可用于制造半导体材料B．增大压强有利于加快上…”主要考查了你对【单质硅】，【影响化学反应速率的因素】等知识点的理解和应用能力。关于这些知识点的“档案”，你可以点击相应的链接进行查看和学习。

◎ 相似题

与“四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法，有关反应的化学方程式为：SiCl4+2H24HCl+Si,下列说法不合理的是[]A．反应制得的硅可用于制造半导体材料B．增大压强有利于加快上”考查相似的试题有：

● （10分）某研究小组为了研究不同条件下金属铝粉在过量稀硫酸中的溶解性能，设计如下实验。已知：c(H2SO4)="4.5"mol·L－1，反应均需要搅拌60min。编号温度/℃加入某盐H2SO4体积 ● （16分）Na2S2O8溶液可降解有机污染物4-CP，原因是Na2S2O8溶液在一定条件下可产生强氧化性自由基（SO4-）。通过测定4-CP降解率可判断Na2S2O8溶液产生（SO4-·）的量。某研究小组探究 ● 某同学在用稀硫酸与锌制取氢气的实验中，发现加入少量硫酸铜溶液可加快氢气的生成速率。请回答下列问题：（1）硫酸铜溶液可以加快氢气生成速率的原因是________________（2）实验 ● 下列条件的改变，一定能加快化学反应速率的是A．增大压强B．升高温度C．增大反应物的量D．减小生成物的浓度 ● （8分）水煤气不仅是合成氨的原料气也是合成烃及其化工产品的原料。（1）直接水煤气燃料电池中，通CO、H2的极为电池的极（选填：“正”，“负”）。（2）水煤气变换反应：CO(g)+H2O(g)CO2(