半导体生产中常需要控制掺杂,以保证控制电阻率,三氯化磷(PCl₃)是一种重要的掺杂剂。实验室要用黄磷(白磷)与干燥的Cl₂模拟工业生产制取PCl₃,装置如下图所示:(部分夹持装置略去)

已知黄磷与少量Cl₂反应生成PCl₃,与过量Cl₂反应生成PCl₅。PCl₃遇水会强烈水解生成H₃PO₃和HCl,遇O₂会生成POCl₃,POCl₃溶于PCl₃。PCl₃、POCl₃的熔沸点见下表:

物质	熔点/℃	沸点/℃
PCl3	-112	75.5
POCl3	2	105.3

 
请回答下列问题:
(1)A装置中制氯气的离子方程式为　　　　　　　　　　　　。 
(2)B中所装试剂是　　　　　,E中冷水的作用是　　　　　　　　,F中碱石灰的作用是　　　　　　　　　　。 
(3)实验时,检查装置气密性后,先打开K₃通入干燥的CO₂,再迅速加入黄磷。通入干燥CO₂的作用是　　　　　　　　　　　　。通过控制K₁、K₂能除去A、B装置中的空气,具体的方法是　　　　　　　　　　　　　　　　　　　。 
(4)粗产品中常含有POCl₃、PCl₅等。加入黄磷加热除去PCl₅后,通过　　　　　(填实验操作名称),即可得到较纯净的PCl₃。