三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5H2O="2"NO+HNO3+9HF。下列有关该反应的说法正确的是A．NF3在潮湿的空气中泄漏时容易被发现-高中化学-n多题

◎ 题干

三氟化氮（NF₃）是微电子工业中优良的刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：
3 NF₃ + 5 H₂O =" 2" NO + HNO₃ + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是

A．NF₃在潮湿的空气中泄漏时容易被发现

B．NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂

C．氧化产物与还原产物的物质的量之比为2:1

D．若转移0.2mol电子时，生成NO气体4.48Ｌ

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◎ 知识点

根据n多题专家分析，试题“三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5H2O="2"NO+HNO3+9HF。下列有关该反应的说法正确的是A．NF3在潮湿的空气中泄漏时容易被发现…”主要考查了你对【质量守恒定律】，【阿伏加德罗定律】，【晶体、非晶体】等知识点的理解和应用能力。关于这些知识点的“档案”，你可以点击相应的链接进行查看和学习。

◎ 相似题

与“三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5H2O="2"NO+HNO3+9HF。下列有关该反应的说法正确的是A．NF3在潮湿的空气中泄漏时容易被发现”考查相似的试题有：

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