工业上用“三氯氢硅还原法”制备纯硅的工业流程如图：

（1）石英砂的主要成分是        （填化学式），在制备粗硅时焦炭的作用是        。
（2）制备三氯氢硅的反应：
Si（s）+3HCl（g）SiHCl3（g）+H2（g）
伴随的副反应为：        
Si（s）+4HCl（g） SiCl4（g）+2H2（g）
已知SiHCl3和SiCl4常温下均为液体，工业上分离SiHCl3和SiCl4的操作方法
为        ；
写出SiHCl3（g）和HCl反应生成SiCl4（g）和H2的热化学方程式        。
（3）该生产工艺中可以循环使用的物质是        。
（4）实验室用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下图（热源及夹持装置略去）.已知SiHCl3能与H2O强烈反应，在空气中易自燃。
①装置B中的试剂是        （填名称），装置C中的烧瓶需要加热，其目的是         。

②实验中先让稀硫酸与锌粒反应一段时间后，再加热C、D装置的理由是        ，装置D中发生反应的化学方程式为        。