(16分)氨气是一种重要的基础化工原料，用途广泛。（1）在微电子工业中，氨水可作刻蚀剂H2O2的清除剂，产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH3+3H2O2=+6H2O（2）工业中常用以下-高中化学-n多题

◎ 题干

(16分)氨气是一种重要的基础化工原料，用途广泛。
（1）在微电子工业中，氨水可作刻蚀剂H₂O₂的清除剂，产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH₃+ 3H₂O₂= +6H₂O
（2）工业中常用以下反应合成氨：N₂+3H₂

2NH₃△H＜0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中，分别加入N₂和H₂，浓度均为c(N₂) =" 0.100mol/L," c(H₂) = 0.300mol/L，进行反应时, N₂的浓度随时间的变化如图①、②、③曲线所示。

该反应平衡常数的数学表达式为            ；实验②平衡时H₂的转化率为_____       。
（3）据图所示，②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出，并说明判断的理由。
②条件：_______     理由：                                     ________
③条件：_______     理由：                                     ________

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◎ 知识点

根据n多题专家分析，试题“(16分)氨气是一种重要的基础化工原料，用途广泛。（1）在微电子工业中，氨水可作刻蚀剂H2O2的清除剂，产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH3+3H2O2=+6H2O（2）工业中常用以下…”主要考查了你对【化学平衡的有关计算】，【影响化学平衡的因素】，【达到化学平衡的标志】，【化学平衡常数】等知识点的理解和应用能力。关于这些知识点的“档案”，你可以点击相应的链接进行查看和学习。

◎ 相似题

与“(16分)氨气是一种重要的基础化工原料，用途广泛。（1）在微电子工业中，氨水可作刻蚀剂H2O2的清除剂，产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH3+3H2O2=+6H2O（2）工业中常用以下”考查相似的试题有：

● 在一定温度下，反应：2A(s)+2B(g)C(g)+D(g)在恒容容器中进行，不能说明该反应已经达到平衡的是A．单位时间内生成2amolB，同时生成amolDB．C的质量不再改变C．容器内的压强不随时 ● 在一定温度下，可逆反应A(气)＋3B(气)2C(气)达到平衡的标志是()A．A、B、C的分子数比为132B．A、B、C的浓度相等C．C生成的速率与C分解的速率相等D．单位时间生成nmolA，同时生成3 ● 在一定温度下，容器内某一反应中M、N的物质的量随反应时间变化的曲线如图所示，则下列说法正确的是A．反应的化学方程式为：2MNB．t2时，正逆反应速率相等，达到平衡C．t3时，正反 ● 在一定温度下，可逆反应A(气)＋3B(气)2C(气)达到平衡的标志是A．C生成的速率与C分解的速率相等B．A、B、C的浓度相等C．A、B、C的分子数比为1:3:2D．单位时间生成nmolA，同时生成3 ● 对于可逆反应2SO2+O22SO3，在混合气体中充入一定量的18O2，足够长的时间后，18O原子A．只存在于O2中B．只存在于O2和SO3中C．只存在于O2和SO2中D．存在于O2、SO2和SO3中