光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：
已知：
Ⅰ．（R，R’为烃基或氢）
Ⅱ．（R，R’为烃基）
（1）A分子中含氧官能团名称为         。
（2）羧酸X的电离方程式为         。
（3）C物质可发生的反应类型为         （填字母序号）。
a．加聚反应    b． 酯化反应   c． 还原反应    d．缩聚反应
（4）B与Ag(NH₃)₂OH反应的化学方程式为         。
（5）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E的结构简式为         。
（6）与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有4种，其结构简式分别为
、、        和        。
（7）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为         。