◎ 题干
由能量判据(以焓变△H为基础)和熵判据(△S)组合而成的复合判据,适合于所有过程的自发性判断。公式为△H -T△S(T指开尔文温度)。若△H- T△S<0,反应自发进行。
电子工业中清洗硅片上的SiO2(s)的 反应是:
SiO2(s)+4HF(g)=SiF4 (g) +2H2O(g) △H (298. 15K)= -94. 0kJ/mol  △S(298. 15K)=- 75. 8J·mol-1·K-1
假设△H和△S不随温度而变化,试求此反应自发进行的温度条件。
◎ 答案
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◎ 解析
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◎ 知识点
    根据n多题专家分析,试题“由能量判据(以焓变△H为基础)和熵判据(△S)组合而成的复合判据,适合于所有过程的自发性判断。公式为△H-T△S(T指开尔文温度)。若△H-T△S<0,反应自发进行。电子工业中清洗硅…”主要考查了你对  【化学反应进行的方向】  等知识点的理解和应用能力。关于这些知识点的“档案”,你可以点击相应的链接进行查看和学习。
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