(8分)三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它能发生如下反应：3NF3＋5H2O===2NO＋HNO3＋9HF。请回答下列问题：⑴NF3中氮元素的化合价为；⑵NF3的大于HNO3（填氧化性或-高中化学-n多题

◎ 题干

(8分) 三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它能发生如下反应：3NF₃＋5H₂O===2NO＋HNO₃＋9HF。请回答下列问题：
⑴NF₃中氮元素的化合价为       ；
⑵NF₃的        大于HNO₃（填氧化性或还原性）；
⑶在上述反应中还原剂与氧化剂的物质的量之比为         ；
⑷若生成0.2 mol HNO₃，则转移的电子数为       ；

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◎ 知识点

根据n多题专家分析，试题“(8分)三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它能发生如下反应：3NF3＋5H2O===2NO＋HNO3＋9HF。请回答下列问题：⑴NF3中氮元素的化合价为；⑵NF3的大于HNO3（填氧化性或…”主要考查了你对【氮气】，【二氧化氮】，【单质磷及其化合物】等知识点的理解和应用能力。关于这些知识点的“档案”，你可以点击相应的链接进行查看和学习。

◎ 相似题

与“(8分)三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它能发生如下反应：3NF3＋5H2O===2NO＋HNO3＋9HF。请回答下列问题：⑴NF3中氮元素的化合价为；⑵NF3的大于HNO3（填氧化性或”考查相似的试题有：

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